Application : champs semi-conducteurs

Application : champs semi-conducteurs

  • Le comportement du plasma dans les générateurs de plasma
  • Observation du processus de défaillance des dispositifs à semi-conducteurs

Des caméras à grande vitesse sont utilisées pour l'analyse des modes de défaillance, y compris les observations du moment de destruction du film isolant sur les dispositifs à semi-conducteurs.

Claquage diélectrique du dispositif à semi-conducteur

On observe un claquage diélectrique du dispositif MOS (métal - oxyde - silicium, à la base du circuit intégré à semi-conducteur). Le processus de décomposition est capturé dans lequel l'électrode métallique en couche mince va se décoller du film d'oxyde tout en émettant un flash. (Fourni par le laboratoire Sugawa Kuroda de l'Université de Tohoku) Vitesse d'enregistrement : 1 million d'images / seconde. Largeur du champ de vision : env. 0,8 millimètre

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